2大對手卡關！傳台積電首套High-NA EUV曝光機提早引進 還低於市價 【記者呂承哲／台北報導】隨著先進製程進入埃米時代，荷蘭半導體設備商艾司摩爾（ASML）的高數值孔徑極紫外光 (High-NA EUV) 曝光機成為關鍵，英特爾目前已經取得全球首套設備，台積電業務開發資深副總裁張曉強先前聲稱，雖然他很喜歡High-NA EUV曝光機，但是太貴了，他認為台積電研發團隊會持續專注在新一代EUV應用，並選擇最合適的製程節點來使用。不過，有消息傳出，台積電預計在9月底引進High-NA EUV曝光機，較先前猜測的年底更早。
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