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迎接埃米時代 應材推出新一代電子束系統技術加速晶片缺陷檢測 【記者呂承哲/台北報導】應用材料公司(Applied Materials)宣布,推出新一代電子束(eBeam)系統SEMVision H20,該技術能夠加速先進晶片的奈米級缺陷檢測,提升半導體製造良率與生產效率。透過結合第二代「冷場發射」(CFE)技術與AI影像辨識,SEMVision H20系統提供更高解析度的成像與更快速的缺陷分類能力,進一步推動半導體製程控制技術的發展。

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迎接埃米時代 應材推出新一代電子束系統技術加速晶片缺陷檢測
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