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恐損失數億美元！隨機性變異衝擊先進製程　Fractilia助攻2奈米量產【記者呂承哲／台北報導】先進半導體製造隨機性（stochastics）誤差量測與控制解決方案業者Fractilia，在最新發表的白皮書中指出，隨機性圖案變異已成為先進製程節點量產（high-volume manufacturing, HVM）無法達標良率的最大障礙。根據該白皮書分析，這些來自光源、分子、材料等層級的非系統性誤差，在量產階段對晶圓廠造成的潛在損失可高達數億美元。

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